現(xiàn)在多肽標(biāo)記及修飾的內(nèi)容非常多，主要應(yīng)用在多肽合成藥物、多肽生物學(xué)、多肽抗體以及多肽合成試劑的研究中。常用的有N 端標(biāo)記或修飾、N 端熒光素修飾、光敏劑修飾、N 端脂肪酸修飾、C 端標(biāo)記或修飾、磷酸化標(biāo)記、二硫鍵成環(huán)環(huán)化、賴氨酸修飾、高氨基酸修飾、PEG修飾、單標(biāo)、雙標(biāo)、疊氮修飾、Mal修飾、N-Me修飾、偶聯(lián)等，目前行業(yè)內(nèi)對多肽修飾的研究已經(jīng)成為熱點(diǎn)。
三羊開肽成熟掌握300+多肽特殊修飾的核心技術(shù)，能夠根據(jù)客戶需求提供各種修飾性多肽合成服務(wù)。目前應(yīng)用廣泛的有：非放射性核素標(biāo)記（C13，H2，N15），熒光標(biāo)記（FAM，F(xiàn)ITC等），生物素標(biāo)記，磷酸化修飾等。
多肽標(biāo)記和修飾的主要特點(diǎn)：
1.多樣性：通過添加不同的官能團(tuán)，改變多肽的物理化學(xué)性質(zhì)，如溶解性、穩(wěn)定性、親疏水性等，從而增加多肽的功能多樣性。
2.可控性：通過控制修飾的程度和位置，實(shí)現(xiàn)對多肽功能的精細(xì)調(diào)控。
3.靈活性：可以根據(jù)需要，靈活地設(shè)計(jì)和合成出具有特定功能的多肽。
4.可擴(kuò)展性：可應(yīng)用于大規(guī)模的多肽生產(chǎn)，通過優(yōu)化修飾條件，實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的多肽合成和修飾。
